Машина для литографии, машина для фототравления, выравниватель маски
Внедрение продукции
Источник света для экспонирования использует импортный УФ-светодиод и модуль формирования источника света, с небольшим нагревом и хорошей стабильностью источника света.
Перевернутая осветительная конструкция обеспечивает хороший эффект рассеивания тепла и эффект закрытия источника света, а замена и обслуживание ртутной лампы просты и удобны.Оснащенный бинокулярным двухпольным микроскопом с высоким увеличением и ЖК-экраном шириной 21 дюйм, его можно визуально выравнивать с помощью
окуляр или дисплей CCD +, с высокой точностью выравнивания, интуитивно понятным процессом и удобным управлением.
Функции
С функцией обработки фрагментов
Выравнивание контактного давления обеспечивает повторяемость через датчик.
Зазор выравнивания и зазор экспозиции можно установить в цифровом виде.
Использование встроенного компьютера + сенсорного экрана, простое и удобное, красивое и щедрое.
Потяните вверх и вниз пластину, просто и удобно
Поддержка воздействия вакуумного контакта, воздействия жесткого контакта, воздействия давления и воздействия близости.
С функцией интерфейса нано-отпечатка
Однослойное воздействие одним ключом, высокая степень автоматизации
Эта машина имеет хорошую надежность и удобную демонстрацию, особенно подходит для обучения, научных исследований и на заводах в колледжах и университетах.
Подробнее
Спецификация
1. Зона воздействия: 110 мм × 110 мм;
2. ★ Длина волны воздействия: 365 нм;
3. Разрешение: ≤ 1 м;
4. Точность выравнивания: 0,8 м;
5. Диапазон перемещения стола сканирования системы выравнивания должен составлять не менее: Y: 10 мм;
6. Левая и правая световые трубки системы выравнивания могут перемещаться отдельно в направлениях X, y и Z: направление X: ± 5 мм, направление Y: ± 5 мм и направление Z: ± 5 мм;
7. Размер маски: 2,5 дюйма, 3 дюйма, 4 дюйма, 5 дюймов;
8. Размер выборки: фрагмент, 2", 3", 4";
9. ★ Подходит для образцов толщиной: 0,5–6 мм и может поддерживать образцы толщиной не более 20 мм (по индивидуальному заказу);
10. Режим экспозиции: время (режим обратного отсчета);
11. Неравномерность освещения: ＜ 2,5%;
12. Двухпольный юстировочный микроскоп с ПЗС-матрицей: зум-объектив (1-5 раз) + объектив микроскопа;
13. Ход перемещения маски относительно образца должен составлять не менее: X: 5 мм;Y: 5 мм;: 6°；
14. ★ Плотность энергии воздействия: > 30 МВт/см2,
15. ★ Положение выравнивания и положение экспозиции работают на двух станциях, при этом серводвигатель двух станций переключается автоматически;
16. Выравнивание контактного давления обеспечивает повторяемость через датчик;
17. ★ Зазор выравнивания и зазор экспозиции можно установить в цифровом виде;
18. ★ Имеет интерфейс наноотпечатка и бесконтактный интерфейс;
19. ★ Управление сенсорным экраном;
20. Габаритные размеры: около 1400 мм (длина), 900 мм (ширина), 1500 мм (высота).
